大庆废气处理设备报价 大庆废气处理设备报价 吸附现象是发生在两个不同相界面的现象，吸附过程就是在界面上的扩散过程，是发生在固体表面的吸附，这是由于固体表面存在着剩余的吸引力而引起的。吸附可分为物理吸附和化学吸附；物理吸附亦称范德华吸附，是由于吸附剂与吸附质分子之间的静电力或范德华引力导致物理吸附引起的，当固体和气体之间的分子引力大于气体分子之间的引力时，即使气体的压力低于与操作温度相对应的饱和蒸气压，气体分子也会冷凝在固体表面上，物理吸附是一种放热过程。化学吸附亦称活性吸附，是由于吸附剂表面与吸附质分子间的化学反应力导致化学吸附，它涉及分子中化学键的破坏和重新结合，因此，化学吸附过程的吸附热较物理吸附过程大。在吸附过程中，物理吸附和化学吸附之间没有严格的界限，同一物质在较低温度下可能发生物理吸附，而在较高温度下往往是化学吸附。活性炭纤维吸附以物理吸附为主，但由于表面活性剂的存在，也有一定的化学吸附作用。由于活性炭具有有发达的孔隙结构和大的比表面积，因此它有超强的吸附性能，它的吸附性能可分为物理吸附和化学吸附。物理吸附是活性炭的主要吸附性能，所谓物理吸附就是靠分子间的范德华力把吸附质分子吸引到炭的表面上集中。这种在活性炭表面上的物理吸附是可逆的，为什么这样说呢？原因就是因为在一定温度和压力下达到吸附平衡后，在高温和低压下被吸附物质是可以被解吸出来的。也正是利用活性炭的吸附和解吸过程，使活性炭可以回收有机溶剂。活性炭解吸后，内部表面又恢复到原来的状态，所以活性炭在物理吸附中可以经过再生重复使用。常州天环净化环保研发生产的喷涂废气处理设备，喷涂废气，喷涂房采用专业的设计，针对新世纪环保节能的需求特点，积极引进国外喷涂废气处理设备先进生产技术，每一个环节每一个设备都追求精益求精 ，层层把关，追求完美的品质，大限度的保证了喷涂废气处理设备产品的质量和服务。公司生产的喷涂废气处理设备因为其节能环保深受国内外客户的关注和青睐。大庆废气处理设备报价 废气处理设备低温等离子体：低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的着火电压时，气体分子被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。低温等离子体空气净化设备能够显著治理的污染有：VOC、恶臭气体、异味气体、油烟、粉尘，也可用于消毒杀菌。低温等离子体技术是一种全新的净化过程，不需要任何添加剂、不产生废水、废渣，不会导致二次污染。??酸雾净化设备（以立式为例）是属于两相逆流填料吸收塔。废气从塔体下方进气口沿切线方向进入净化塔，在通风机的动力作用下，迅速充满进气段空间，然后均匀地通过均流段上升到第一级填料吸收段。在填料的表面上，气相中酸性物质与液相中碱性物质发生化学反应。反应生成物质多数为可溶性盐类，随吸收液流入下部储液槽。未被吸收的酸性气体继续上升进入第一级喷淋段。在喷淋段中由喷嘴形成的无数细小吸收液雾滴与气体混合接触，继续进行化学反应。然后上升到第二级填料段、喷淋段，进行与第一级同样的处理过程。第二级与第一级喷嘴密度不同，喷淋液压力不同，吸收反应的强度及范围也有所不同。在喷淋段及填料表面气液两相接触反应过程，是传热与传质的过程。通过控制空塔流速及滞留时间保证这一过程的充分与稳定。对于化学活性较高的酸性气体，采用中性水吸收便可达到足够的净化效率，而对于某些活性活泼性较差的物质，尚需在吸收液中加入一定量的表面活性剂，在塔体上部件设有雾段，气体中夹带的吸收液雾滴在这里被清除下来。经处理后的清洁空气从净化塔上端排入大气。废气处理设备有机废气的燃烧及催化净化设备：燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。
大庆废气处理设备报价 废气处理设备有机废气的燃烧及催化净化设备：燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理。废气处理设备多介质催化氧化工艺原理：反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，投资低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。
废气处理设备多介质催化氧化工艺原理：反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，投资低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。废气处理设备多介质催化氧化工艺原理：反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，投资低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
